半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各类电子器件、微电子工业、集成电路需用高纯水(含盐量在0.3mg/L以下,电导率小于0.2μs/cm的水)、超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)清洗半制品、制品。
反渗透超纯水机处理技术工艺
1、 工业反渗透超纯水机工艺 半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各类电子器件、微电子工业、集成电路需用高纯水(含盐量在0.3mg/L以下,电导率小于0.2μs/cm的水)、超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)清洗半制品、制品。集成电路的集成度越高,对水质的请求也越高。我国电子工业部把电子级水质技巧分为五个行业尺度,分辨为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分分歧水质。 工业超纯水处理设备采用两级反渗透主机加EDI纯水系统(Electrodeionization的简称)。
2、 制备超纯水的工艺分以下几种: 1、采用离子交换树脂(用化学法将高分子共聚物制成的无机单体颗粒的离子交换剂)制备超纯水的传统水处理方法,其基础工艺流程为:原水→沙炭过滤器→慎密过滤器(保送介质的管道中清除介质中杂质的一种过滤装置)→原水箱→阳床→阴床→混床→纯水箱→纯水泵(把原念头的机械能变为水能量从而达到抽送水的机械)→后置慎密过滤器(或称保安过滤器)→用水滴
3、 2、采用反渗透水处理(经由过程物化方法往除水中一些物质的过程)设备与离子交换,其基础工艺流程为:原水→沙炭过滤器(保送介质的管道中清除介质中杂质的一种过滤装置)→慎密过滤器→原水箱→反渗透(借助于半透过膜的膜分别技巧)→混床→纯水箱→纯水泵(把原念头的机械能变为水能量从而达到抽送水的机械)→后置慎密过滤器(或称保安过滤器)→用水滴
4、 3、采用反渗透水处理设备与电往离子的超纯水/EDI纯水设备这是一种制取超纯水(水中导电介质、胶体物质、无机物等简直全部往除的水)的最新工艺,也是一种环保,经济,其基础工艺流程为:原水→沙炭过滤器(保送介质的管道中清除介质中杂质的一种过滤装置)→慎密过滤器(或称保安过滤器)→原水箱→反渗透(借助于半透过膜的膜分别技巧→电往离子(又称填充床电渗析EDI纯水系统)纯水箱→纯水泵(把原念头的机械能变为水能量从而达到抽送水的机械)→后置慎密过滤器(或称保安过滤器)→用水滴