国光微纳平台反应离子刻蚀机操作方法

 时间:2024-10-13 03:24:32

1、打开总电源,打开循环水,打开所用工艺气体。按下放气按钮,打开盖子,将刻蚀样品放到托盘中央,盖严盖子。

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2、按下开泵按钮,打开初级泵,开始抽真空。等真空抽到一定程度,机器上方的分子泵控制器会显示转速。此时,按下“工作”按钮,打开分子泵。

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3、打开侧面板,查看内部接线情况,1~4路气MFC分别对应三氟甲烷、氧气、氩气、六氟化硫。因为3、4两个控制器损坏,只能使用1、2两个控制器来控制其他各路气的流量。

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4、等分子泵转速达到700Hz,并稳定后,打开总阀和所需工艺气体阀门。调节气体流量,并稳定2分钟左右。

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5、选择反应模式,有磁增强“MERIE”和普通“RIE”两个模式。设定刻蚀时间,定时开关拨至定时模式,设置好工作时间(分秒),也可以选择不计时。选择量程,同时按下按钮“启动”和按钮“ON”,观察功率计,调节功率,调节匹配电容C1和C2匹配电容使得反射功率最低。

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6、工作完成后,关闭工艺气体阀门,打开阀控2,拨动开关调至最左侧(清洁),打开O2气阀,通气清洁30S、关O2流量阀和气阀。按分子泵“工作”按钮,关闭分子泵,等显示数字降为0,按下“关泵”按钮,等待2Min,待关泵上方灯亮,按下“放气”按钮,等待40S,打开盖子,取片子。然后关上盖子,按开泵抽一下真空,关闭总电源、水、气等。

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